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靶材系列


半导体用高纯钛靶

半导体用高纯钛靶

产品名称:钛靶 、高纯钛靶产品名称高纯度靶材尺寸1.圆形靶:98*45/95*40/128*45/100*40;2.... 【详情】
TA2钛靶

TA2钛靶

名称:钛靶材、钛多弧靶, 钛平面靶,钛旋转靶、钛靶块牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2执行标准:GB/T269... 【详情】
TA0/TA1/TA2钛靶

TA0/TA1/TA2钛靶

产品名称:钛靶 、高纯钛靶产品名称高纯度靶材尺寸1.圆形靶:98*45/95*40/128*45/100*40;2.... 【详情】
屏幕显示用钛靶材

屏幕显示用钛靶材

名称:钛靶材、钛多弧靶, 钛平面靶,钛旋转靶、钛靶块牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2执行标准:GB/T269... 【详情】
TA1钛靶材

TA1钛靶材

产品名称:钛靶材、钛多弧靶, 钛靶块,钛块牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2执行标准:GB/T2695-1996,ASTM... 【详情】
旋转钛靶

旋转钛靶

产品名称:钛靶材、钛旋转靶 、钛靶块牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2执行标准:GB/T2695-1996,ASTM B3... 【详情】
表面涂层用钛靶块

表面涂层用钛靶块

名称:钛靶材、钛多弧靶, 钛平面靶,钛旋转靶、钛靶块牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2执行标准:GB/T269... 【详情】
TA2高纯钛靶

TA2高纯钛靶

产品名称:TA2高纯钛靶、钛靶材执行标准: GB/T2695-1996,ASTM B348-97产 地:陕西宝鸡材 质:T... 【详情】
真空镀膜TA2钛靶材

真空镀膜TA2钛靶材

产品名称:TA2钛靶、钛靶材执行标准: GB/T2695-1996,ASTM B348-97产 地:陕西宝鸡材 质:Ti纯 ... 【详情】
钛圆柱靶

钛圆柱靶

产品名称:钛靶材、钛靶块,钛圆柱靶牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2执行标准:GB/T2695-1996,ASTM B348-... 【详情】
高纯钛靶

高纯钛靶

产品名称:钛靶 、高纯钛靶产品名称高纯度靶材尺寸1.圆形靶:98*45/95*40/128*45/100*40;2.... 【详情】
钛平面靶

钛平面靶

产品名称:钛板靶、钛平面靶、钛靶板主要型式:圆靶/板靶/管靶牌号:TA1,TA2,TC4 圆靶:60/65/70... 【详情】
钛旋转靶

钛旋转靶

产品名称:钛靶材、钛旋转靶 、钛靶块牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2执行标准:GB/T2695-1996,ASTM B3... 【详情】
钛管靶

钛管靶

产品名称:钛靶材,钛旋转靶,钛管靶牌号:TA0,TA1,TA2/GR1,GR2执行标准:GB/T2695-1996,ASTM B348-9... 【详情】
钛板靶

钛板靶

产品名称:钛靶材、钛板靶、钛靶板牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2执行标准:GB/T2695-1996,ASTM B348-... 【详情】
涂层用铬靶

涂层用铬靶

名称:铬多弧靶牌号:Gr用途:铬靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀... 【详情】
溅射镀膜用铬靶材

溅射镀膜用铬靶材

产品名称:铬靶材、铬多弧靶、 铬靶块、铬块牌号:Gr用途:用于半导体分离器件、平面显示器... 【详情】
溅射镀膜铬靶块

溅射镀膜铬靶块

产品名称:铬靶块牌号:Cr用途:铬靶块用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅... 【详情】
热等静压铬靶材

热等静压铬靶材

铬靶性 能纯度/%99.599.95密度/g/cm3≥7.12≥7.12晶粒度/μm≤100≤100金属杂质总和/p... 【详情】
铬靶材

铬靶材

产品名称:铬靶材、铬多弧靶、 铬靶块、铬块牌号:Gr用途:用于半导体分离器件、平面显示器... 【详情】
铬圆靶

铬圆靶

产品名称:铬靶材、铬靶块、铬圆靶产地:宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量: 0.5%重量 :不等用途:铬... 【详情】
高纯铬靶

高纯铬靶

产品名称:高纯铬靶、铬靶材、铬靶块产地:宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量: 0.5%重量 :不等( KG... 【详情】
铬平面靶

铬平面靶

产品名称:铬平面靶产地:宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量: 0.5%重量 :不等( KG/块)用途:铬靶用于... 【详情】
铬旋转靶

铬旋转靶

产品名称:铬旋转靶产地:宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量: 0.5%重量 :不等( KG/块)用途:铬靶用于... 【详情】
铬管靶

铬管靶

产品名称:铬管靶产地:宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量: 0.5%重量 :不等( KG/ 块)用途:铬靶用于半... 【详情】
铬板靶

铬板靶

名称:铬板靶牌号:Gr用途:铬板靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀... 【详情】
铬多弧靶

铬多弧靶

名称:铬多弧靶牌号:Gr用途:铬靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀... 【详情】
铬靶块

铬靶块

名称:铬靶块牌号:Gr用途:铬靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜... 【详情】
铬靶管/铬旋转靶

铬靶管/铬旋转靶

产品名称:铬靶管、铬旋转靶产地:宝鸡铭含量 : 99.5%杂质含量: 0.5%重量 :不等( kg/ 块)用途... 【详情】
铬靶板

铬靶板

名称:铬靶材、铬多弧靶, 铬平面靶,铬旋转靶牌号:Gr用途:用于半导体分离器件、平面显示器、... 【详情】
702锆靶

702锆靶

产品名称:锆靶、锆多弧靶牌号:R60702、R60704、R60705(Zr702、Zr704、Zr705)生产工艺:热轧+... 【详情】
高纯锆靶

高纯锆靶

产品名称:锆靶、高纯锆靶牌号:702、705密度:6.49 g/cm3成型:真空熔炼物流包装:快递,真空木箱... 【详情】
锆平面靶

锆平面靶

产品名称:锆靶材 、锆平面靶纯度:99.6%类型:平面靶材标准:国标、美标、德标均可生产状态:冷... 【详情】
锆旋转靶

锆旋转靶

产品名称:锆靶管、锆旋转靶厂家:凯泽金属材 质:Zr纯 度:99.98%晶粒度:<100um工艺:热轧,冷轧,酸... 【详情】
锆管靶

锆管靶

产品名称:锆靶材、锆管靶牌号:R60702、R60704、R60705(Zr702、Zr704、Zr705)生产工艺:热轧+... 【详情】
锆板靶

锆板靶

产品名称:锆靶、锆板靶牌号:R60702、R60704、R60705(Zr702、Zr704、Zr705)生产工艺:热轧+冷... 【详情】
锆多弧靶

锆多弧靶

产品名称:锆靶、锆多弧靶牌号:R60702、R60704、R60705(Zr702、Zr704、Zr705)生产工艺:热轧+... 【详情】
锆靶块

锆靶块

产品名称:锆靶块,锆多弧靶块 ,锆块牌号:R60702、R60704、R60705执行标准:GB/T8769-2010用途... 【详情】
锆靶材

锆靶材

产品名称:锆靶材、锆圆靶、锆板靶、锆管靶牌号:R60702、R60704、R60705(Zr702、Zr704、Zr... 【详情】
Zr60702锆靶管

Zr60702锆靶管

名称:锆靶材、锆多弧靶, 锆平面靶,锆旋转靶牌号:Zr60702执行标准:GB/T 8769-2010用途:用于... 【详情】
Zr60702锆靶板

Zr60702锆靶板

产品名称:锆靶材、锆多弧靶, 锆平面靶,锆旋转靶牌号:Zr60702执行标准:GB/T 8769-2010用途:... 【详情】
镍靶

镍靶

产品名称:镍靶产品材质:Ni产品规格:685.7 L x 127 W x 6 H mm (按客户要求定制) (可提供背... 【详情】
纯镍靶

纯镍靶

产品名称:镍靶材、镍旋转靶,镍平面靶,镍多弧靶牌号:N6, N4用途:用于半导体分离器件、平面显... 【详情】
N4/N6镍靶管

N4/N6镍靶管

产品名称:镍靶材、镍旋转靶,镍靶管牌号:N6, N4用途:用于半导体分离器件、平面显示器、储存... 【详情】
N6镍靶板

N6镍靶板

名称:镍靶、镍多弧靶、镍平面靶板、镍旋转靶管牌号: N6、 N4用途:用于半导体分离器件、平... 【详情】
钛铝靶管

钛铝靶管

产品名称:高纯铝靶管、钛铝靶一、产品规格参数纯度:99.9% 99.99% 99.999%粒度:LD70× OD5... 【详情】
钛铝靶材

钛铝靶材

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高,粒度细,易烧结,成型性好的特点。纯度:99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】
高纯钛铝靶

高纯钛铝靶

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高,粒度细,易烧结,成型性好的特点。纯度:99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】
多弧钛铝靶

多弧钛铝靶

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高,粒度细,易烧结,成型性好的特点。纯度:99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】
高纯铝靶管

高纯铝靶管

产品名称:高纯铝靶管、钛铝靶一、产品规格参数纯度:99.9% 99.99% 99.999%粒度:LD70× OD5... 【详情】
旋转钛铝靶

旋转钛铝靶

99.8%钛铝靶特性钛铝靶具有纯度高,粒度细,易烧结,成型性好的特点。纯度:99.8%Φ160*12 Φ... 【详情】
铜靶材

铜靶材

名称:铜靶材、铜多弧靶, 铜平面靶,铜旋转靶牌号:Cu用途:用于半导体分离器件、平面显示器、... 【详情】
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