溅射镀膜铬靶块

铬靶性 能纯度/%99.599.95密度/g/cm3≥7.12≥7.12晶粒度/μm≤100≤100金属杂质总和/ppm≤5000≤500热导率/W/m.K60100热膨胀系数/1/K8×10-68×10-6规格尺寸/mm平面靶≤150... 【详情】

产品名称：铬靶材、铬多弧靶、 铬靶块、铬块牌号：Gr用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。... 【详情】

名称：铬靶块牌号：Gr用途：铬靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等领域。... 【详情】