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高纯钛铝靶

发布时间:2022-11-20人气:18

产品名称:高纯钛铝靶材

高纯钛铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铝经过系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状高纯铝材料,安装在真空镀膜机上,溅射成膜。

1、用途

适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铝靶材的价格较低,所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。

2、分类

铝靶材有平面铝靶材和旋转铝靶材之分平面铝靶材是片状的,有圆形、方形等。

旋转铝靶材是管状的,利用效率高,但不易加工,要通过高纯铝挤压、拉伸、校直热处理,机加工等多种加工工序才能制得铝旋转靶材成品。



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