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半导体用高纯钛靶
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半导体用高纯钛靶

材质:TA0 、TA1 、TA2

执行标准: GB/T2695-1996,ASTM B348-97

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发布日期: 2023-08-14 16:32:45

全国热线: 13892456796

详细描述 / Detailed description

产品名称:钛靶 、高纯钛靶

产品名称高纯度靶材
尺寸1.圆形靶:98*45/95*40/128*45/100*40;2.现货充足,24H发货
牌号钛:TA0 TA1 TA2
纯度99.5%,99.95%, 99.98%99.995%
资质认证ISO 9001:2015 材料测试报告
技术真空熔融,获得专业的热机械工艺
形状扁平靶材,根据您的要求加工定制
应用半导体分离,薄膜涂层材料,存储电极涂层,溅射涂层,表面涂层,玻璃涂层工业。
牌号拉伸强度Rm / MPa(> =)屈服强度Rp0.2(MPa)伸长率A4D(%)面积减小Z(%)
TA02401402430
TA14002752030
TA28958251025
Gr73702502025
Gr124853451825
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