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靶材


99.99%纯镍靶

99.99%纯镍靶

产品名称:镍靶产品材质:Ni产品规格:685.7 L x 127 W x 6 H mm (按客户要求定制) (可提供背板绑定)纯度:99.99%产品应用:电子半导体,晶元及芯片、微电子传感器、航空航天、5G光电行... 【详情】
702锆靶

702锆靶

产品名称:锆靶、高纯锆靶牌号:702、705密度:6.49 g/cm3成型:真空熔炼物流包装:快递,真空木箱包装具体尺寸:平面靶、多弧靶、帮定靶材、圆柱,根据客户图纸加工。用途:高纯锆靶主要用于... 【详情】
镍靶

镍靶

产品名称:镍靶产品材质:Ni产品规格:685.7 L x 127 W x 6 H mm (按客户要求定制) (可提供背板绑定)纯度:99.99%产品应用:电子半导体,晶元及芯片、微电子传感器、航空航天、5G光电行... 【详情】
TA1/TA2/TC4钛平面靶

TA1/TA2/TC4钛平面靶

产品名称:钛板靶、钛平面靶、钛靶板主要型式:圆靶/板靶/管靶牌号:TA1,TA2,TC4 圆靶:60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/42/45/50(T)板靶:60/80/120(W)×6/8/12(T)×519/... 【详情】
铬靶

铬靶

名称:铬靶块牌号:Gr用途:铬靶用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业等领域。... 【详情】
铬靶材

铬靶材

牌号:铬靶 尺寸:100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。铬靶是用先进的热等静压(HIP)工艺生产而成,靶材致密度高(密度>7.17g/cm3),成分均匀,晶粒细小,使用寿命长。... 【详情】
TA1纯钛靶

TA1纯钛靶

名称:钛靶材、钛多弧靶, 钛平面靶,钛旋转靶牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2执行标准:GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面... 【详情】
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