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高纯度溅射钛靶

发布时间:2021-02-07人气:214

名称:钛靶材、钛多弧靶, 钛平面靶,钛旋转靶

牌号:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2

执行标准:GB/T2695-1996,ASTM B348-97

用途:钛靶材广泛应用于用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业等领域。

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