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高纯度溅射钛靶

发布时间：2021-02-07人气：351

名称：钛靶材、钛多弧靶, 钛平面靶，钛旋转靶

牌号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2

执行标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97

用途：钛靶材广泛应用于用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等领域。

钛靶材

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