1、前言靶材是溅射源的一种。通过多弧的离子态镀膜系统或不同形态不同方式的镀膜系统，或者是利用磁场控制溅射在严格可控的工艺以及一定的实验条件下，溅射在不同功能的基板上形成各种功能薄膜的溅射源。本文提到的ITO靶材，属于一种极为重要的N型半导体材料，利用不同功率密度、不同输出波形的激光与ITO靶材相互作用时，会

一、产品名称：钛环、钛合金环、钛合金锻件1、材质国内：TA1、TA2、TA3、TA4、TA9、TA10、TC4美标：GR1、GR2、GR3、GR4、GR5、GR7、GR11、GR12、GR23;国标：GB/T 16598-1996美标：ASTM B348，ASTM B381，AMS 49282、规格外径φ（200~400）*内径φ（100~300）*高度（20~120） 外径φ（400~700）*内径φ（150~500

一、产品名称：钛加工件规格：外径(100～800mm) 内径(40～100mm)×高度 按图纸/客户要求加工状态：热锻、机械加工牌号：TA1、TA2、TA7、TA9、TA10、TC4、TC11执行标准：GB/T16598、ASTM B381、 ASM 4928交货状态：退火状态（M） 热加工态（R） 冷加工态（Y）(退火，超生波探伤)包装：采用木箱 扎带 泡沫纸 纸箱 编织袋等符合

一、产品名称：TA1钛靶、TA2钛靶、钛靶材材 质：Ti纯 度：99.9%-99.99%牌号：TA1、TA2晶 粒 度：<100um规格：可以按照用户需要定制应用领域：钛靶材广泛应用于电子、五金、钟表、眼镜、首饰、刀具、模具、玩具、厨具、器皿、机械、真空镀膜等行业。纯钛靶的特性：①利用物理气相沉积镀膜，增加工具表面强度。②使用纯金属

引言随着我国工业技术发展及新技术的引进，管道的腐蚀问题是影响现代工业发展的一个极为严重的破坏因素，工矿化工等企业的管道腐蚀所引起跑、冒、滴、漏除影响着正常生产外，还降低了产品质量、污染环境、浪费能源及提高了安全隐患出现的几率，上述问题的长期存在严重阻碍了我国工业化发展进度。所以一种具备耐腐蚀、高强度

在微电子半导体集成电路，薄膜混合集成电路， 片式元器件，特别是光盘、磁盘及液晶平面显示器 LCD等技术领域 需使用各种性能各异，要求不同的溅射靶材，例如各种光碟、液晶显示器LCD及LSI等的产品数量已十分巨大，仅以我国台湾为例， 其CD -R 在1999年就生产约17.7亿片，2000年的产量将达到47亿片，CD-RW片2000年将达到18 亿