磁控溅射镀膜以其高速、低温、低损伤等特点，可被用于溅射半导体、金属、绝缘体等几乎任何材料。因其具有制备简单、附着力强、镀膜面积大及易于控制等优点，广泛应用于电子行业、信息存储产业及其他领域，如激光存储器、集成电路、信息存储、薄膜电阻、电子控制器件、磁记录、玻璃镀膜、表面工程及高档装饰等[1,2]。磁控溅射

近年来，随着电镀和化学镀等传统表面改性技术的局限性日益突出，以物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）为主要工艺方法的真空镀膜技术取得了突飞猛进的进展，其中，PVD 制备过程所需要的溅射靶材[1-3] 市场需求量日趋旺盛。据统计，全球范围内靶材的市场需求量每年以20% 的速度增长，中国作为全球制造业大国，其靶材的

钛合金比重小（约4.5）、熔点高（1600℃左右）、塑性好，具有比强度高、耐蚀性强，能在高温下长期工作（目前热强钛合金已用于500℃）等优点，因而已经越来越多地用作飞机和飞机发动机的重要承载部件，除了钛合金材料的锻件外，还有铸件、板材（如飞机蒙皮）、紧固件等等。现代国外飞机上采用钛合金的重量比已经达到30%左右，

钛合金材料的应用取决于其性能，由于钛合金这些优秀的性能，钛管、钛棒等钛合金材料越来越广泛地运用于航天航空、化工、医疗器械以及海洋工程等领域。1、钛合金材料在航空工业中的应用钛的应用起始于 20 世纪 50 年代初，最早应用于航空工业钛合金具有较高的比强度，钛合金材料的强度和钢相近但密度远小于钢；并

一、靶材介绍:溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。溅射靶材工作原理示意图如下:二、工艺流程

传统上采用铸造法和粉末冶金法生产钛铝合金靶材。铸造法制作钛铝合金靶材无法避免疏松和缩孔，大尺寸钛铝铸管和铸锭不能保证制成旋转管靶时达到密封和防水效果，并且随着管壁的刻蚀，壁厚变薄，疏松和缩孔只要有一个孔连通，密封性会变得更加糟糕，轻者渗漏，靶管起辉放电，或大量杂气参与反应导致掉膜或者起彩颜色不对。严