名称：钛方块、钛加工件执行标准：国标 16598、美标 ASTM B381 AMS4928 GB/T 25137材质牌号：TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 (GR1,GR2,GR5,Gr7，GR9)生产工艺：锻造尺寸规格：50-1500* 50-2000* L用途：钛锻件主要应用于宇航锻件，海洋，军工及民用化工设备等。

一、产品名称：钛环、 TC4钛环牌号：TC4/GR5钛含量≥99.0(%)杂质含量0.2(%)化学成分：Ti长度：5-5000功能：耐腐蚀种类：钛环分为毛环、抛光环、车光环重量1-200(kg/块)执行标准：ASTM B 348， ASTM B 367， ASTM B 381， ASTM F 67， ASTM F 136， GB/T 2965， GB/T 13810牌号：TA1/GR1，TA2/GR2，TA3/GR3，TA4/GR4

钛合金材料的应用取决于其性能，由于钛合金这些优秀的性能，钛管、钛棒等钛合金材料越来越广泛地运用于航天航空、化工、医疗器械以及海洋工程等领域。1、钛合金材料在航空工业中的应用钛的应用起始于 20 世纪 50 年代初，最早应用于航空工业钛合金具有较高的比强度，钛合金材料的强度和钢相近但密度远小于钢；并

前言随着电子信息产业的飞速发展, 薄膜科学应用日益广泛。溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一, 溅射沉积薄膜的源材料即为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高, 附着性好。20 世纪 90 年代以来, 微电子行业新器件和新材料发展迅速, 电子 、磁性 、光学 、光电和超导薄膜等已经广泛应用于高新技术和工业领域, 促使溅射靶材市

一、产品名称：钛方块、 钛合金方块执行标准：GB/T 16598、ASTM B381 AMS4928 GB/T 25137材质牌号：TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 (GR1,GR2,GR5,Gr7，GR9)生产工艺：锻造尺寸规格：50-1500* 50-2000* L用途：钛合金方块广泛应用于宇航锻件，海洋，军工及民用化工设备。二、产品名称：锆坩埚锆坩埚纯度达到99.6%,密度为6

一、靶材介绍:溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。溅射靶材工作原理示意图如下:二、工艺流程